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a Ciclo Unico
INGEGNERIA
INGEGNERIA ELETTRONICA
Insegnamento
NANOTECNOLOGIE OTTICHE E LASER
INL1001839, A.A. 2011/12

Informazioni valide per gli studenti immatricolati nell'A.A. 2010/11

Principali informazioni sull'insegnamento
Corso di studio Corso di laurea magistrale in
INGEGNERIA ELETTRONICA
IN0520, ordinamento 2008/09, A.A. 2011/12
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Crediti formativi 6.0
Tipo di valutazione Voto
Denominazione inglese OPTICAL AND LASER NANOTECHNOLOGIES
Sito della struttura didattica http://moodle.dei.unipd.it/
Obbligo di frequenza No
Lingua di erogazione ITALIANO
Sede PADOVA
Corso singolo NON è possibile iscriversi all'insegnamento come corso singolo
Corso a libera scelta È possibile utilizzare l'insegnamento come corso a libera scelta

Docenti
Responsabile LUCA POLETTO

Dettaglio crediti formativi
Tipologia Ambito Disciplinare Settore Scientifico-Disciplinare Crediti
AFFINE/INTEGRATIVA Attività formative affini o integrative FIS/03 6.0

Organizzazione dell'insegnamento
Periodo di erogazione Secondo semestre
Anno di corso II Anno
Modalità di erogazione frontale

Tipo ore Crediti Ore di
didattica
assistita
Ore Studio
Individuale
LEZIONE 6.0 48 102.0

Calendario
Inizio attività didattiche 05/03/2012
Fine attività didattiche 16/06/2012
Visualizza il calendario delle lezioni Lezioni 2019/20 Ord.2019

Commissioni d'esame
Commissione Dal Al Membri
8 A.A. 2016/2017 01/10/2016 15/03/2018 POLETTO LUCA (Presidente)
NICOLOSI PIERGIORGIO (Membro Effettivo)
NALETTO GIAMPIERO (Supplente)
VILLORESI PAOLO (Supplente)
7 A.A. 2015/2016 01/10/2015 15/03/2017 POLETTO LUCA (Presidente)
NICOLOSI PIERGIORGIO (Membro Effettivo)
NALETTO GIAMPIERO (Supplente)
VILLORESI PAOLO (Supplente)
6 A.A. 2014/2015 01/10/2014 15/03/2016 POLETTO LUCA (Presidente)
NICOLOSI PIERGIORGIO (Membro Effettivo)
NALETTO GIAMPIERO (Supplente)
VILLORESI PAOLO (Supplente)
01/10/2013 15/03/2015 POLETTO LUCA (Presidente)
NICOLOSI PIERGIORGIO (Membro Effettivo)
NALETTO GIAMPIERO (Supplente)
PELIZZO MARIA-GUGLIELMINA (Supplente)
VALLONE GIUSEPPE (Supplente)
VILLORESI PAOLO (Supplente)
4 2012 01/10/2012 15/03/2014 POLETTO LUCA (Presidente)
NICOLOSI PIERGIORGIO (Membro Effettivo)
PELIZZO MARIA-GUGLIELMINA (Supplente)

Syllabus
Prerequisiti:
Risultati di apprendimento previsti: Introduzione a temi avanzati sulla generazione ed utilizzo della radiazione ultravioletta e dei raggi X. Tecniche di fotolitografia. Impiego degli impulsi laser ultracorti nelle nanotecnologie.
Contenuti: Il corso sara' diviso in due parti:
- La prima parte verte sulle nanotecnologie ottiche che sfruttano la radiazione ultravioletta e i raggi X, con attenzione a tematiche quali la litografia per i circuiti microelettronici e la microscopia con risoluzione nanometrica.
- La seconda verte sulle nanotecnologie laser legate agli impulsi laser ultracorti, che comprende una parte di introduzione alle tecniche di generazione e una sui meccanismi di interazione ultraveloci.

Sono previste due uscite didattiche: visita alla sorgente di luce di sincrotrone ELETTRA (Trieste) e visita industriale su tecniche di controllo di qualità con radiazione X.
Programma: Interazione radiazione-materia con particolare attenzione alla regione spettrale dell'ultravioletto e raggi X soffici: processi di assorbimento ed emissione, processi di scattering, propagazione delle onde, indice di rifrazione, leggi della riflessione.
Ottiche e strumenti per l'ultravioletto e i raggi X: cenni alla teoria delle aberrazioni, specchi, telescopi, configurazioni per microscopia, reticoli di diffrazione, cristalli, ottiche diffrattive, specchi a multistrato.
Rivelatori di radiazione: effetto fotoelettrico, fotocatodi, rivelatori ad integrazione e a conteggio di fotoni, fotomoltiplicatori, piastre a microcanali, fotodiodi, CCD, CMOS/APS, rivelatori per raggi X.
Sorgenti di radiazione nell'estremo ultravioletto.
La radiazione di sincrotrone: principi di funzionamento di un sincrotrone, elementi di un anello di accumulazione, caratteristiche dell'emissione, esempi di linee di luce.
Il laser ad elettroni liberi (FEL): principio di funzionamento, esempi di installazioni per l'emissione nell'estremo ultravioletto e nei raggi X. Proprietà di coerenza della radiazione FEL.
La fotolitografia: processo litografico, litografia in prossimità e a proiezione. Tecniche di litografia X e litografia nell'estremo ultravioletto: sistemi ottici, esempi di realizzazioni.
Introduzione al laser e alla generazione di impulsi ultrabrevi. Tecniche di generazione di armoniche di ordine elevato nell'estremo ultravioletto e raggi X.
Testi di riferimento: Atwood, Soft X-rays and extreme ultraviolet radiation. --: Cambridge University Press, --.
Metodi didattici: Tradizionale
Metodi di valutazione: Prova in itinere ed esposizione orale
Altro: Nessuna